STAMPA a caldo
Cosmelux eleva il packaging a un’arte con la stampa a caldo: una tecnologia esclusiva che unisce lusso e precisione. Effetti metallici brillanti, finiture perlescenti e opache, trasferite con calore e pressione su materiali come plastica, vetro, metallo e altro, danno vita a superfici uniche e pregiate, sia semplici che complesse. Professionalità e cura artigianale, unite a un rigoroso controllo qualità, fanno della stampa a caldo la scelta ideale per imballaggi esclusivi. Perché il lusso è forma e sostanza.
i VANTAGGI
- Versatilità dei supporti | La stampa a caldo garantisce effetti metallici brillanti e ad alta tenuta su plastica, vetro, metallo e altre superfici, incluse quelle piane, tonde, ellittiche e complesse.
- Tecnologia integrata | Grazie a un processo che combina stampa a caldo e tampografia, è possibile decorare anche il vetro grezzo o verniciato con precisione, adattandosi a materiali delicati e preziosi.
- Alta qualità e cura artigianale | a professionalità dello staff e i rigorosi controlli qualità assicurano risultati eccellenti, unendo dettagli artigianali e procedure industriali.
- Effetti personalizzati di lusso | Lamine metalliche, perlescenti, opache o lucide sono trasferite con tecniche avanzate, rendendo il packaging esclusivo e raffinato.
Capacità Produttiva
Capacità Produttiva per pezzi di dimensione standard: 60.000 pz. totali
Macchinari
4 Semiautom. stampa in piano
2 Automatiche stampa in tondo
Certificazioni Aziendali
DIN ISO 9001:2015
pvd | Impianti evaporazione termica
Nel campo della metallizzazione legata all’aspetto decorativo, l’adozione di impianti ad evaporazione termica è ancora oggi il sistema più diffuso per la semplicità del suo utilizzo e per la sua efficacia di deposizione in presenza di substrati con geometrie molto complicate.
La fonte di deposizione consiste in resistenze in tungsteno, generalmente poste al centro della camera di processo, sulle quali viene alloggiato il filo del metallo da depositare.
I substrati sono posizionati attorno alle resistenze e vengono fatti ruotare (rotazione e traslazione) durante la fase di deposizione del metallo.
Per ottenere la deposizione del metallo all’interno della camera di processo è necessario raggiungere un grado di vuoto generalmente nsuperiore a 4×10-4 mbar (alto vuoto).
Una volta raggiunto il grado di vuoto necessario inizia la vera e propria fase di evaporazione che consiste nel riscaldamento delle resistenze in tungsteno che, rese incandescenti, fondono il metallo il quale evapora andando a condensarsi sulla superficie del substrati.
pvd | Sputtering
Moderno, veloce ed economico sistema di deposizione dei metalli in origine utilizzato unicamente su substrati con superfici piane, oggi invece è sempre più utilizzato anche su oggetti tridimensionali, anche se con geometrie semplici.
Nella tecnologia sputtering la fonte di deposizione è rappresentata da un catodo magnetico sul quale viene alloggiato una piastra metallica (target) del materiale che si desidera depositare.
Il catodo magnetico viene generalmente collocato a lato della camera di processo. I substrati ruotano davanti alla fonte di deposizione. Raggiunto il grado di vuoto desiderato si applica un alto voltaggio e si immette Argon.
Gli ioni positivi di Argon subiscono un processo di accelerazione sul catodo negativo ed in seguito espellono gli atomi della piastra metallica. Questi atomi vanno poi a condensare sui substrati.
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